常用型號
OBLF MVS 1000
OBLF GS 1000-II
OBLF VeOS
OBLF QSN750-II
OBLF QSG750-II
OBLF 雙電極系統(tǒng)
OBLF 直讀光譜儀
MVS 1000
描述
MVS 1000 火花發(fā)射光譜儀可以對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的材料分析。MVS 1000 以極具吸引力的成本使用最現代的檢測器技術。
分析能力包括短波元素的精確分析，如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和鋁中的磷。
主要特征
完整而靈活地覆蓋所有常見的分析任務
簡單的擴展選項
最新、專門開發(fā)的探測器技術
在檢出限、精密度、穩(wěn)定性方面表現良好
堅固的結構，適用于惡劣環(huán)境
最廣泛的多矩陣應用
緊湊型光譜儀
技術參數
Paschen-Runge 設置中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
光學和讀出系統(tǒng)溫度穩(wěn)定在 35 °C ± 0.1 °C，以獲得最佳的長期穩(wěn)定性
計算機控制的自動分析
針對波長范圍優(yōu)化的傳感器線
沒有傳感器線路涂層的高紫外線靈敏度
輕金屬真空室
免維護旋片泵
真空泵集成在外殼中
防止油回火和油擴散
采用 Stromtor 技術的門控數字源 (GDS)
免維護
射頻高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分參數可以單獨參數化
射頻和放電特性可自由參數化
點火電壓 20kV
230V；50/60赫茲；1.5kVA
待機模式下 200 W
GS 1000-II
描述
GS 1000-II 是 OBLF 系列中最小的成員，是適用于所有標準應用的單矩陣火花發(fā)射光譜儀。由于其緊湊堅固的結構以及簡單的操作，它非常適用于鑄造廠等生產環(huán)境，
也適用于進貨和材料控制。為了保證不受光譜儀周圍外部條件的影響，檢測器（光電倍增管）和集成系統(tǒng)安裝在溫度穩(wěn)定的真空光學器件中。分析能力涵蓋短波元素的精確分析，如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和氮以及鋁中的磷。
主要特征
緊湊型光譜儀
GDS III 建議
真空光學
自清潔火花架
可選配“mini-GISS”
可選雙電極系統(tǒng)
技術參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長范圍 140-770 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩(wěn)定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩(wěn)定性
自動計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長選擇 PMT 類型
抗震性
帶集成多火花系統(tǒng)的門控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點火電壓 20kV
寬 60 厘米
身高 110 厘米
深度 108 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 200 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
OBLF VeOS
描述
OBLF 的 VeOS 火花發(fā)射光譜儀采用基于為發(fā)射光譜專門開發(fā)的半導體探測器的尖端探測器技術，能夠對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的分析。分析光譜還包括對短波長元素（如氮或低碳）的精確分析。
主要特征
完整而靈活地包含所有分析任務
易于擴展的功能
最新、專門開發(fā)的探測器技術
在檢出限、精密度、穩(wěn)定性方面表現出色
用于重型環(huán)境的堅固設計
最全面的多矩陣應用選項，對分析元素的選擇沒有任何限制
準確檢測 N 和痕量碳 (ULC)
技術參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長范圍 130-700 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩(wěn)定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩(wěn)定性
冷卻光學元件和讀出系統(tǒng)
自動計算機控制的輪廓
每個波長區(qū)域的優(yōu)化檢測器線
沒有傳感器涂層的高紫外線靈敏度
抗震性
帶集成多火花系統(tǒng)的門控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點火電壓 20kV
寬 74 厘米
身高 134 厘米
深度 115 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 300 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
QSN 750-II
我們的 QSN 750-II 型號是一款火花發(fā)射光譜儀，由于其 750 mm真空光學元件，可用作單矩陣或多矩陣系統(tǒng)。這導致了廣泛的應用領域，不僅涵蓋了整個金屬生產和加工企業(yè)，而且還包括材料測試人員和測試機構的廣泛選擇。
集成系統(tǒng)和光電倍增管均按照客戶要求進行布置，均安裝在光學器件內部，因此可免受外部影響。溫度穩(wěn)定的光學元件和門控數字源 (GDS)技術保證了高度的信號再現性和分析穩(wěn)定性。
易于觸及的自清潔和專利火花支架和孔窗使用戶能夠進行無故障維護。排氣過濾器可確保清除消耗的氬氣。
主要特征
多矩陣應用
多達 64 個 PMT 單元通道
GDS III 火花發(fā)生器
真空系統(tǒng)
自清潔火花架
適用于自動化系統(tǒng)
雙電極系統(tǒng)作為選項
自動電極清潔作為選項
技術參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 750 毫米
波長范圍 110-770 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩(wěn)定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩(wěn)定性
自動計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長選擇 PMT 類型
抗震性
帶集成多火花系統(tǒng)的門控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點火電壓 20kV
穩(wěn)定的 PMT 高壓電源
每個通道動態(tài) 16 位 AD 轉換
DSP 處理器控制
USB 接口至光譜儀 PC
尺寸和重量
寬 104 厘米
身高 130 厘米
深度 90 厘米
重量 約 460 公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 500 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
QSG 750-II
描述
我們的QSG 750-II火花發(fā)射光譜儀也堪稱OBLF的旗艦機型。這種單基質或多基質模型非常適合要求盡可能低的檢測限、最高程度的重現性和有關分析物的額外冶金信息的所有應用。
應用范圍從鋼鐵廠或其他冶煉廠等初級生產商到金屬加工公司，再到研究機構和大學。
QSG 750-II 與QSN 750-II型號相當。主要區(qū)別在于數據記錄系統(tǒng)，它基于OBLF 開發(fā)的GISS技術（單火花門控集成）。在尺寸相同的情況下，它還配備了久經考驗的硬件組件，
如溫度穩(wěn)定的 750 毫米真空光學器件、具有可自由定義參數的門控數字源 (GDS)技術和獲得專利的自清潔火花支架。排氣過濾器可確保清除消耗的氬氣。所有關鍵設備部件都易于訪問，簡化了需要用戶執(zhí)行的服務任務。
主要特征
多矩陣應用
多達 64 個 PMT 單元通道
GDS III 火花發(fā)生器
真空系統(tǒng)
自清潔火花架
適用于自動化系統(tǒng)
門控集成 (GISS)
包含分析（GISS）
可選 ULB 雙電極系統(tǒng)
自動電極清潔作為選項
技術參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 750 毫米
波長范圍 110-770 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩(wěn)定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩(wěn)定性
自動計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長選擇 PMT 類型
抗震性
抽真空的輕金屬室
免維護 2 級旋片泵
真空泵集成在機柜中
泵占空比 <5%
油擴散保護
自動壓力調節(jié)和穩(wěn)定
帶集成多火花系統(tǒng)的門控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點火電壓 20kV
開放式樣品臺，便于操作
低磨損頂板，開口 12 毫米
可選擇用于小零件和電線的適配器
低磨損鎢電極
用于快速樣品處理的氣動樣品夾
自動電極清潔作為選項
每次測量大約消耗 3 升氬氣
易于維護
穩(wěn)定的 PMT 高壓電源
每個通道 23 位 AD 轉換
GISS 技術（單火花門控集成）
DSP 處理器控制
USB 接口至光譜儀 PC
尺寸和重量
寬 104 厘米
身高 130 厘米
深度 90 厘米
重量 約 460 公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 500 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
客服熱線：15538055081
