Hellma氟化鈣晶體CaF2光學(xué)材料
Hellma Materials CaF2多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料。
CaF2 是投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF2 獨(dú)特的光學(xué)特性可實(shí)現(xiàn)各種高級應(yīng)用。
技術(shù)優(yōu)勢：
曹雪莉
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Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨(dú)*的光學(xué)特性：
從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
對高能顆粒和輻射的合格抵抗力
直徑可達(dá)420mm
應(yīng)用領(lǐng)域：
紅外光學(xué)元件
用于天文儀器的光學(xué)元件
天基光學(xué)器件
顯微鏡光學(xué)元件
光譜光學(xué)
紫外光學(xué)
激光窗口
準(zhǔn)分子激光光學(xué)
微光刻光學(xué)
沈陽漢達(dá)森YYDS曹
Hellma氟化鈣晶體CaF2光學(xué)材料
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