德國Hellma氟化鈣晶體材料CaF2的光學特性
Hellma Materials CaF2多年來一直被用作半導體生產微光刻的光學關鍵材料。
CaF2 是投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業標準材料。CaF2 獨特的光學特性可實現各種高級應用。
技術優勢：
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨*的光學特性：
從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
曹雪莉
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準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
對高能顆粒和輻射的合格抵抗力
直徑可達420mm
沈陽漢達森YYDS曹
應用領域：
紅外光學元件
用于天文儀器的光學元件
天基光學器件
顯微鏡光學元件
光譜光學
紫外光學
激光窗口
準分子激光光學
微光刻光學
德國Hellma氟化鈣晶體材料CaF2的光學特性
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